催化事件：荷兰政府扩大光刻机出口管制范围，限制1980i DUV光刻机出口。
9月6日，根据ASML官网，荷兰政府公布了浸润式DUV光刻机出口新规，自9月7日起生效，生效后ASML需要向荷兰政府申请出口许可证才能出口发运型号为 TWINSCANNXT：1970i和1980i DUV光刻机。
一、1970i和1980i需向荷兰政府申请许可，好于市场担忧？
荷兰政府9月6日发布了关于浸润式DUV半导体设备出口的最新许可要求，ASML需要向荷兰政府而非美国政府申请出口许可，才能出货其TWINSCANNXT:1970i和1980i DUV浸润式光刻系统。
荷兰出口许可要求已适用于TWINSCANNXT:2000i及后续DUV浸润式系统。
1）对于2000i和先前出口管制规定变化不大；
2）对于1970i和1980i，早在23年10月，美国单方面开始限制相关出货（含美国零部件），根据新规，1970i和1980i需向荷兰申请出口许可非美国政府，好于市场先前担忧。
3）24M1-7累计光刻机进口金额51.27亿美元，同比+79.22，24M7中国大陆进口荷兰光刻机金额11.42亿美元，同比+82.57，光刻机目前非国内扩产瓶颈。
二、美或加码设备制裁，利好美系核心设备环节？
9月5日，美国商务部工业和安全局（BIS）在《联邦公报》上发布了一项临时最终规则（IFR），对量子计算、先进半导体制造、GAAFET等技术的出口管制进行了升级。
其中增加2个先进半导体制造设备相关物项（3B001.q和3B903）并修订先进半导体制造设备相关物项的许可要求，主要涉及对刻蚀设备（各向同性、各向异性干法刻蚀）加码了管制、同时加强了扫描电子显微镜（SEM）工具的限制。
1）美对华过去两年围绕先进制程设备进行管制，此前已经形成了详细的管制内容，新规关于半导体设备变化内容不大，但整体趋严比较确定；
2）我们认为随着美国管制细不断完善，在执行层面将更加严格，对于国产化率较低且美国垄断的量测、离子注入机，以及美国刻蚀、薄膜等优势环节，有望加速国产验证进度。
投资分析意见：国内晶圆厂先进制程扩产，自主可控趋势下国产半导体设备最受益。
重点关注各细分领域市占率及技术水平相对占优半导体设备公司:
北方华创(薄膜沉积、刻蚀、清洗设备、热处理等)，
中微公司(刻蚀、薄膜沉积等)，
中科飞测、精测电子(前道检测量测设备)，
拓荆科技(薄膜沉积、键合设备等)，
芯源微（不涂胶显影、清洗设备等)。
栗智（执业编号：A0380623120005）简介：
顶点财经首席投顾，厦门大学管理学学士，拥有十余年投资经验，独创《智富寻龙术》，以“资金观天象，逻辑寻龙脉，量价定龙头”的寻龙诀，从容把握成长型黑龙、题材型白龙和情绪型红龙的腾飞机遇。
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